Оборудование для роста монокристаллов
Аппаратно данный метод реализуется разделением теплового узла на несколько зон с независимыми контурами регулирования температуры (обычно – не менее трёх зон нагрева). В каждой отдельной зоне реализуется независимое автоматическое регулирование температуры, минимизирующее температурный градиент в данной зоне. Контроль за процессом роста осуществляется путем прецизионного контроля веса растимого кристалла в поперечном сечении. Эта конфигурация не подразумевает использование визуального контроля, все параметры процесса регулируются специализированным программным обеспечением в автоматическом режиме.
Для выращивания полупроводниковых соединений, содержащих в своем составе легколетучие компоненты, данный метод предполагает использование технологии жидкой герметизации расплава. В этом случае кристаллизуемый расплав располагается под слоем легкоплавкого флюса, плотность которого меньше плотности расплава. Тигель с расплавом и флюсом помещают в рабочую камеру, в которой создаётся давление инертного газа, на 50 – 100% превышающее давление пара летучего компонента. Технология позволяет значительно снизить испарение летучих компонентов, ведущих к нестихиометрии кристаллов и повысить таким образом степень чистоты и совершенства кристаллов.
Специалистами нашей компании разработан ряд собственных технологий, позволяющих эффективно реализовать низкоградиентный метод Чохральского, в том числе - прецизионное устройство для реализации весового контроля, позволяющее регистрировать вес кристалла максимальной массой до 40 кг. с точностью ±1 мг. Разработана собственная автоматизированная система управления процессом и программные алгоритмы, позволяющие эффективно растить высокосовершенные кристаллы разных типов. Наша система управления позволяет создать ростовую установку операторского уровня, не требующую участия квалифицированного специалиста для реализации процесса роста кристалла.